ist eine exponentielle Abnahme
Ao=Strahlung vor der Platte
A(1)=Ao-Ao/100%*5%=Ao*(1-5%/100%)
a=1-p/100%=1-5%/100% → exponentielle Abnahme
A(s)=Ao*0,95^(1/mm*s)
A(s)=Ao/2
Ao/2=Ao*0,95^(s)
1/2=0,5=0,95^(s) logarithmiert
ln(0,5)=ln(0,95^(s))=s*ln(0,95) → Logarithmengesetzt log(a^(x))=x*log(a)
s=ln(0,5)/ln(0,95)=13,513 mm
Ao/4 → ln(0,25)
s=ln(0,25)/ln(0,95)=27,03 mm
Ao/8 → 1/8=0,125
s=ln(0,125)/ln(0,95)=40,54 mm
Hinweis:Kannst auch den Logarithmus mit der Basis 10 nehmen
s=log(0,5)/log(0,95)=13,51 mm
Plotlux öffnen f1(x) = 100·0,95xf2(x) = 50f3(x) = 25f4(x) = 12,5Zoom: x(-5…50) y(-2…120)x = 13,51x = 27,03x = 40,54